Российская система фотолитографии на 130 нм прошла внутреннюю сборкуЗеленоградский нанотехнологический центр (ЗНТЦ) завершил третью стадию разработки первой отечественной системы фотолитографии, способной работать с кремниевыми пластинами диаметром 200 мм и технологическим узлом 130 нм. По данным CNews, на текущем этапе устройство проходит внутренние испытания, а до его внедрения в массовое производство в реальных заводах-изготовителях (фабах) еще далеко. Хотя блогер Дмитрий Кузнецов назвал это "первой российской литографической установкой на 130 нм, собранной из российских компонентов", документы, виденные CNews, указывают на более сложную картину распределения ролей.
Ключевым проектом здесь является снятие архитектурного ограничения на зависимость от импортного оборудования для базовых техпроцессов. ЗНТЦ выступил интегратором: на его долю легло проектирование общей системы, расчеты проекционных линз, разработка тестового оборудования и, что критически важно, моделирование и разработка технологического процесса вокруг конкретной машины. Сама же литографическая система, механические сборки и пусконаладочные работы были возложены на белорусское предприятие "Планар", а лазерные источники света разработала компания Lassard. На всю программу разработки Министерство промышленности и торговли РФ выделило около 70 миллионов долларов.
Стоимость прототипа оценивается примерно в 7,3 миллиона долларов, из которых 6,7 миллиона приходится на сам степпер и 600 тысяч на лазерный источник. Для контекста: при запуске в первом квартале 2001 года списокная цена степпера ASML PAS 5500/150 составляла 3,1 миллиона долларов. С учетом инфляции это эквивалентно примерно 5,8 миллиона долларов в 2026-м. Таким образом, российская машина сопоставима по стоимости с западными аналогами начала 2000-х годов, что логично для устройства, опережающего современную передовую архитектуру (EUV и DUV immersion) примерно на 25 лет.
Mon, 05 Oct 2026 14:33:00 +0300